西北工業大學分析測試中心系列講座（第十三期）
一、報告題目：新型高效率聚焦離子/電子雙束電鏡在材料領域應用介紹
二、報告人：韓偉（賽默飛世爾科技公司 首席產品專家）
三、講座時間：2019年6月14日（星期五），14:30-16:30
四、講座地點：友誼校區研究生西館XA309
五、報告摘要：
1.（無Ga污染）薄/厚樣品制備與加工
在傳統雙束的加工之中有一個缺點就是Ga離子的污染，Ga離子以高能量轟擊樣品表面時，可以鉆入樣品表層一定深度并停留在樣品內部，這些問題當我們采用Xe等離子源都可以避免，因為Xe離子比Ga離子更大，同樣加速電壓下穿深度更小，因而所制備的薄樣品上非晶層去也更少。透惰性氣體性能穩定，不易與其他元素產生化學反應。不容易生成化合物駐留在樣品表層內部。
2. 大尺寸樣品加工與制備
根據應用表現Ga離子加工區域通常不大于50微米，更大面積/體積的加工會帶來時間成本的上升。而Xe等離子束突破了這些方面的極限，因為Xe離子束束流可達2個微安以上，而Ga離子束束流通常在60nA以下；另外從濺射效率上對大多數樣品Xe離子的濺射效率更高。因而從總體加工效率上看Xe離子束可達Ga離子束的20-100倍。
Xe等離子作為一直全新的離子源為微納尺度范圍加工提供不可替代的性能，加工范圍最大可達1mm尺度，打通了從宏觀到微觀加工的橋梁，必將成為科研和工業領域的一個利器。
本次報告還將介紹在雙束其他方面的最新進展，如三維重構及自動化TEM樣品制備等等。
六、報告人簡介：
韓偉，自2017年起擔任首席產品專家。他于2010年加入賽默飛世爾科技中國，擔任高級應用工程師。2010年之前，韓偉曾擔任Techcomp中國EM產品部門的產品經理。韓偉在北京工業大學獲得金屬材料碩士學位（1998年）。在德國克勞斯塔爾技術大學的物理學博士學位（2004年）。
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